Osoba Kontaktowa :
Stanowisko pozwala na kompleksową charakteryzację liniowych i nieliniowych własności optycznych materiałów, nanostruktur oraz cieczy w zakresie spektralnym od 193 nm do 16 000 nm. W szczególności możliwe są pomiary:
- współczynników transmisji i odbicia w funkcji kąta padania
- nieliniowego współczynnika załamania światła (nieliniowość typu Kerra) i wartości nieliniowego współczynnika absorpcji dwu-fotonowej (metoda z-scan)
- dyspersji materiałów (metoda SEA TADPOLE)
- amplitudy i fazy impulsów świetlnych (metoda FROG)
- dynamiki zjawisk fizycznych i chemicznych (metodą pump and probe)
- generacji wyższych harmonicznych światła.
Układ umożliwia również naświetlnia struktur metodą direct laser writing oraz kontrolowaną ablację laserową.
Elementy wchodzące w skład stanowiska:
- Laser femtosekundowy impulsowy ze zmienną częstością repetycji (10W, 190fs Pharos SP)
- Optyczny wzmacniacz parametryczny na zakres 193 nm-16 000nm (Orpheus)
- Spektrometr IsoPlane 320 z kamerami obrazującymi na zakres spektralny 350-1.8 um
- Analizatory widma na zakres spektralny 900-1700nm oraz 1000 nm – 14 µm
- Pompa perystaltyczna
Cennik (netto):
0000-0002-9012-6437
