Politechnika Wrocławska
Stanowisko profilometru optycznego służy do zaawansowanych pomiarów parametrów topograficznych powierzchni poddanych różnego rodzaju obróbce w szerokim zakresie skali pomiarowej. Dzięki wysokiej rozdzielczości obrazowania i przetwarzaniu cyfrowemu na stanowisku możliwe jest tworzenie obrazów powierzchni o głębi niedostępnej dla klasycznej mikroskopii optycznej z submikrometrowymi rozdzielczościami, umożliwiając pomiar kształtów, chropowatości powierzchni. Uzupełnieniem stanowisko jest mikroskop sił atomowych pozwalający na pomiary profili powierzchni z subnanometrową rozdzielczością.